$南大光电(SZ300346)$ 日本出口光刻胶等核心半导体材料未来会不断持续收紧，我们国产替代进程只会越来越强烈。
南大光电攻克高端壁垒：用于28nm及以下先进制程的ArF光刻胶技术壁垒极高，曾长期被日本企业垄断。南大光电实现了从实验室到量产线的跨越，并牵头国家"02专项"，联合北京大学、南京大学等高校攻克了核心技术。
性能对标国际：其浸没式ArF光刻胶的缺陷密度已降至0.03个/cm，良品率高达99.7%。这些指标意味着产品已具备在实际产线中大规模替代进口的能力。
追加内容
本文作者可以追加内容哦 !
