除了氦气之外，油价上涨也间接增加了半导体材料的生产成本。

　　稀释剂是光刻工艺中用于清除光刻胶残留的清洗材料，核心原料为环氧丙烷（PO）。PO 经加工制成 PGME、PGMEA，再被加工为稀释剂从而供货。报道指出，包括杜邦、陶氏和LG化学在内的供应商已向丙二醇单甲醚乙酸酯（PGMEA）生产商发出提价通知，预计令PGMEA的价格上涨40%至50%。

　　受此趋势影响，包括东进半导体、ENF、东友精细化工在内的稀释剂成品供应商计划将4月份出货的产品价格上涨约20%。


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