结论：日本没有官宣“全面禁售”，但对高端光刻胶（ArF/EUV）已实施严厉出口管制，企业层面实质断供；中低端（i线/G线）仍可申请但审批趋严。
一、官方政策（2025.11起）
- 2025.11.01：日本经产省将ArF（28–7nm）、EUV（7nm以下）光刻胶纳入出口管制清单，实施逐案审批。
- 审批周期：由30天延至90天；对华配额累计削减20%–30%。
- 2025.12.30：加码KrF/i线审批至90天；110家中国半导体企业（含中芯、长江存储）列入重点核查，需提交用途追溯报告。
- 官方口径：2025.12.03内阁官房长官辟谣“全面断供”，称仅精准管控高端，中低端正常申请。
二、企业执行（实质停供）
- 信越、JSR、东京应化（TOK）：2025年底起停接KrF/ArF新单；EUV审批通过率≈0，实质断供。
- 既有订单：交期延至4–8个月，部分中止；技术服务团队撤离。
- 2026年1–2月：中国海关自日本进口高端光刻胶报关量为0。
三、管控分层（截至2026.4）
- 高端（ArF/EUV）：政策严控+企业停供=实质断供。
- 中端（KrF）：审批极严，新单基本不接，存量缓慢交付。
- 低端（i线/G线）：可申请，审批慢、配额减，未断供。
四、影响
- 先进制程（≤28nm）光刻胶库存仅够1–2个月，先进产能受限。
- 成熟制程（≥28nm）依赖中低端胶，库存3–6个月，压力可控。
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