技术颠覆？光芯片压印成本仅DUV的1/10！

2026年06月07日 00:11

　　6月5日，璞璘科技发布消息称，公司与深圳力策合作采用真空气压式纳米压印方案实现8英寸光芯片量产突破：依托璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备，配合定制化双层压印胶材料体系与核心工艺，完全绕开深紫外（DUV）光刻路线，成功实现8英寸光芯片晶圆可规模化量产，并将芯片制造成本压缩至传统DUV方案的十分之一。

　　璞璘科技是一家专注于纳米压印设备及材料研发的企业。公司官网显示，2025年8月，其自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备，顺利通过验收并交付至国内客户，该设备可对应线宽<10nm的纳米压印光刻工艺。<>

　　纳米压印不用光学曝光，靠“纳米印章”物理压印复刻纳米图案，具有超高分辨率、易量产、低成本、一致性高的技术优点，被认为是目前光刻技术替代方案之一。

　　全球厂商中，日本佳能走在前列。2023年10月，其正式发布商用机型FPA-1200NZ2C，是全球首款落地半导体量产的纳米压印光刻机。该机型可实现最小线宽14nm的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5nm节点。

　　纳米压印虽然在成本、能耗上具有显著优势，但也有模板寿命短、缺陷率偏高、压印速度慢等劣势。其优势方向在存储芯片、光芯片等领域，在CPU/GPU逻辑芯片领域存在短板。因此，纳米压印并非光刻技术的“颠覆者”，而是特定赛道的“互补者”。此前就有报道称，美光科技计划率先支持佳能的纳米印刷技术，以降低存储芯片的生产成本。

　　A股中，纳米压印相关概念股主要有苏大维格、美迪凯、利和兴、晶方科技、京华激光、水晶光电等。