1、 ArF / KrF 准分子光刻混合气（王牌产品）
取得ASML子公司Cymer、日本GIGAPHOTON双认证；
用于DUV光刻机光源介质，供货国内中芯、长鑫、长江存储；
2、 高纯稀有气体（自产提纯）
5N/6N电子级氖气、氪气、氙气、6N高纯氦气；
用途：光刻混合气原料、腔体吹扫、真空检漏。
3、6N电子级二氧化碳
应用：晶圆清洗、先进封装超临界清洗。
4、 6N高纯电子氢气
下游：硅片外延、薄膜沉积、载气，同时布局氢能赛道。
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