有，激智科技（300566.SZ）明确掌握并应用高真空磁控溅射镀膜技术，且已用于量产产品和在研项目。
技术依据
定增招股书列为核心技术：公司在2021年向特定对象发行股票的保荐书中，将“高真空磁控溅射镀膜技术”列入自主研发核心技术清单，明确具备中频反应溅射 + 直流溅射能力，可制备单层/多层光学与功能薄膜，面向银反膜、高阻隔膜、减反射膜、金属膜等。
窗膜产品实际应用：经营总结显示，其低反光高红外反射率窗膜采用氮化碳靶材 + 多层磁控溅射工艺制备，提升红外反射稳定性。
近期专利落地：2025—2026年公开的“电子纸保护膜”专利中，基材层一面通过磁控溅射镀无机含硅层，实现紫外截止+硬化一体化、兼作水汽阻隔层。
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