要说中微公司有啥牛，除了产品还是产品，除了技术还是技术！
1、产品介绍
公司主要为集成电路、LED外延片、功率器件、MEMS等半导体产品的制造企业提供刻蚀设备、MOCVD设备及其他设备。
公司产品主要产品为刻蚀设备和MOCVD设备，2020年收入分别12.89亿元、4.96亿元，分别占比56.71%，21.82%；其中刻蚀设备收入同比增长约58.49%。
2020年公司产品销售数据
资料来源：公司年报
（1）刻蚀设备：中微公司国内领先
刻蚀工艺是芯片制造中的关键步骤，主要设备为刻蚀机，根据Gartner分析，2020年刻蚀设备（包含清洗设备）占晶圆制造设备价值量约29%。
刻蚀工艺分湿法和干法，干法刻蚀因能够更好地满足市场需求而占主导地位。
干法刻蚀设备包括CCP（电容耦合）刻蚀设备、ICP（电感耦合）刻蚀设备，两者又不同方式技术特点，擅长的应用领域也有区分。中微公司既有CCP刻蚀设备和ICP刻蚀设备，销售收入仍以CCP刻蚀设备为主。
刻蚀机的技术壁垒极高，尤其是现在芯片的制程越来越先进，研发刻蚀设备的难度也提升。
目前全球刻蚀设备被泛林半导体、东京电子、应用材料三家垄断，2019年半导体刻蚀设备全球市场规模达115亿美元，前三家超90%。
2020年中微公司的刻蚀设备收入为12.89亿元，占全球市场规模不到2%。
虽然中微公司目前的市场份额比较小，但是技术先进程度上与国际相比差不远了。
在逻辑芯片制造环节上，中微公司的高端刻蚀设备已被国际知名客户在65-5纳米晶圆线使用，5纳米刻蚀设备已经通过台积电的验证，并已获得批量订单，公司整体介质刻蚀及出货量已经超过50台。
当前，公司正配合台积电客户需求研发3纳米刻蚀。（台积电当前量产的最先进的制程是5nm工艺）
另外，公司ICP刻蚀设备在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产，正在进行7 纳米以下的逻辑芯片、1X纳米DRAM 芯片和128层以上的 3D NAND 芯片等产品的ICP刻蚀需求研发。（已经量产的3D NAND芯片目前最大是128层）
中微公司刻蚀设备未来主要研发方向：
CCP等离子体刻蚀设备的研发方向：用于3D NAND 和 DRAM 存储器刻蚀的CCP刻蚀设备，特别是用于极高深宽比的应用；用于5-3 纳米及更先进逻辑电路刻蚀的 CCP 刻蚀设备。
ICP 等离子体刻蚀设备的研发方向：用于 3D NAND 和 DRAM 存储器刻蚀的ICP 刻蚀设备；用于 5-3 纳米及更先进逻辑电路刻蚀的ICP 刻蚀设备；用于先进封装和高端MEMS 生产的 TSV 刻蚀设备。
当前刻蚀设备有望率先完成国产替代，中微公司率先收益。虽然中微公司之外，北方华创也有做刻蚀机，但是比中微公司产品要落后，北方华创目前能够生产28nm的硅刻蚀机，14nm在研发和小范围试产过程中。
中微公司的客户涵括国内外的核心半导体制造商，在集成电路制造份额超过74%，显示公司刻蚀设备已经覆盖大部分客户。公司将基于技术优势，持续专注于服务国内半导体制造商，实现国内高端半导体设备的进口替代。
中微公司客户多为国际客户
资料来源：公开资料
根据 Gartner和中国招标网数据，2019年，中微公司刻蚀设备在中国大陆市场份额占比仅5%。但是在其三家核心客户的市场份额占比却达15%；公司采取策略为先集中资源攻克海外客户的先进制程工艺，再下沉服务国内客户的成熟制程工艺，未来公司在全球的市场份额进一步提升。
中微公司在国内知名企业刻蚀机订单占比（2019）
（2）MOCVD设备：行业领先
MOCVD，中文为金属有机化合物化学气相沉淀，是一种新型气相外延生长技术，主要用于LED行业。
LED产业链由衬底加工、LED外延片生产、芯片制造和器件封装组成。
LED外延片的制备是LED外延片生产的重要步骤，与集成电路在多种核心设备间循环的制造工艺不同，LED 外延片主要通过MOCVD单种设备实现。MOCVD设备采购金额一般占LED生产线总投入的50%以上，是LED 外延片制造中最重要的设备。
目前MOCVD设备主要用于氮化镓基及砷化镓基半导体材料外延生长，其中氮化镓基 LEDMOCVD主要用于生产氮化镓基LED和功率器件的外延片。
MOCVD设备除用于制造通用照明和背光显示的蓝光LED，还可制造应用于高端显示的Mini LED 和 Micro LED、用于杀菌消毒和空气净化的紫外 LED、应用于电力电子的功率器件。随着这些新兴领域的应用拓展及逐步推广，氮化镓基 MOCVD 设备的市场规模有望进一步扩大。
除了新型显示应用， 紫外 LED 亦是未来 LED 应用的重点方向。 近期受新冠疫情影响，大众杀菌、消毒意识明显上升，正极大地促进紫外 LED 产业的发展。
据高工LED预测，2018-2022年，MiniLED 市场规模将从不足10亿元增长至 300亿元； MicroLED 市场规模将从 2019年的不足10亿元增长至2024年的700亿元。巨大的市场空间有望成为驱动MOCVD设备的增长的引擎之一。
2018-2022年MiniLED市场预测
2019-2024年MicroLED市场预测
在MOCVD设备领域，公司MOCVD 设备已在行业领先客户生产线上大规模投入量产，持续保持在行业内的领先地位。
2017-2018 年氮化镓基LED MOCVD供应商各季度市场份额变化情况
公司通过核心技术的创新，公司的MOCVD产品已达到国际先进水平；并持续研发新一代刻蚀与MOCVD技术，巩固市场领先地位，打开高端市场。
中微公司MOCVD设备方面，Prismo D-Blue、Prismo A7 成功实现单腔14片4英寸和单腔34片4英寸外延片加工能力。
其中，Prismo A7已在全球氮化镓基LED MOCVD市场中取得领先，实现大量发货。
2020年7月，公司宣布推出应用于深紫外的MOCVD设备已在行业领先客户成功验证并取得重复性订单；
公司正在开发可用于Mini LED 生产的新型MOCVD设备产品，已在客户端取得实质性进展，Micro LED和功率器件的MOCVD正在开发，有望顺应需求变化抢占先机。
（3）其他设备
VOC净化设备：可根据客户的要求灵活配置不同处理规模的系统，提供给客户可靠、稳定、安全和节能的VOC 净化解决方案。目前公司的VOC 净化设备已应用于国内平板显示行业生产线。
2、核心技术团队优异，高强度的持续投入研发
中微公司之所以保持技术先进性，离不开公司优秀的技术团队和在研发上的高强度的投入。
中微公司创始人、董事长尹志尧博士先后供职于英特尔、LAM Research、AMAT 等国际半导体企业，从事核心技术开发等工作。
联合创始人、核心技术人员包括杜志游博士、倪图强博士、麦仕义博士等160多位行业领域的专家，平均从业年限在 20 年左右。
2009年至今，以尹志尧、杜志游、倪图强、麦仕义等行业行业专家为项目负责人，中微公司承担了国家科技重大专项、上海市高新技术产业化重大专项、上海市战略性新兴产业项目等多个国家重大科研项目。主要包括刻蚀设备研发及产业化、 MOCVD 研发及产业化、刻蚀工艺核心零部件的验证与应用等。
从公司的研发人员情况看，2020年公司研发人员346人，占比达38.70%，较上年明显提升。从研发人员的结构上，博士占比将近18%。
中微公司2020年研发人员情况
下面是中微公司和北方华创的核心团队对比
从研发投资金额来看，2019年、2020年，公司研发投入分别为4.24亿元，6.39亿元，占营业收入比例分别为21.81%、28.14%。2020年研发投入同比增50.69%，营收占比提升6.33割百分点。
中微公司2020年度研发投入
2020年，公司研发投入包含股份支付费用 0.49 亿元。剔除股份支付费用的影响，2020年全年研发投入总额为 5.91 亿元，较2019年的研发投入总额增长39.16%。
2020年公司研究开发新的工艺，主要包括存储器刻蚀的CCP 和ICP刻蚀设备、Mini-LED大规模生产的高输出量 MOCVD 设备、 Micro-LED 应用的新型 MOCVD设备等。
中微公司积累了深厚的技术储备和研发经验，公司拥有多项自主知识产权和核心技术。截止 2020年12月31日，公司已获授专利1755项，其中发明专利1517项，研发优势将保证公司产品和服务不断进步。
（3）估值到底贵不贵？
2018、2019、2020年公司的净利润依次为0.91亿元、1.89亿元、4.92亿元，其中政府补贴依次为1.01亿元、0.26亿元、2.53亿元，扣非净利润依次为1.04亿元、1.47亿元、0.23亿元。
考虑公司高研发的烧钱商业模式，当前属于早期成长阶段，按照PE和PEG估值都不太合理。
券商机构采用中长期收入体量对公司进行估值，以SOTP估值法测算出中微公司2021年目标市值1064亿元（刻蚀943亿元，MOCVD 122亿元），目标价199.00元。
截止2021年4月2日，公司收盘价114.90元，市值614.72亿元。
（以上分析仅供参考，不作为投资建议。）
- 中微公司(688012)
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