【国产光刻胶技术，重大突破！】4月2日，据《科技日报》记者从华中科技大学获悉，该

$华工科技(SZ000988)$  【国产光刻胶技术，重大突破！】

4月2日，据《科技日报》记者从华中科技大学获悉，该校与湖北九峰山实验室组成联合研究团队，突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。

据介绍，这一具有自主知识产权的光刻胶体系已在生产线上完成了初步工艺验证，并同步完成了各项技术指标的检测优化，实现了从技术开发到成果转化全链条打通。该研究成果有望为光刻制造的共性难题提供明确的方向，同时为极紫外线光刻机光刻胶的着力开发做技术储备，对推动国产光刻胶的技术进步意义重大。

光刻胶是半导体制造不可或缺的材料。光刻是利用光学、化学、物理方法，将设计好的电路图转移到晶圆等表面，是光电信息产业链中核心环节。光刻胶是对光敏感的混合液体，主要是由树脂、光引发剂、溶剂、单体等组成，是光刻工艺中最核心耗材，其性能决定着光刻质量，也是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。

【 湖北：创新出动能

3月下旬，湖北九峰山实验室外风和日暖、绿草如茵，实验室内科研人员正屏息凝神在技术创新的道路上加速“奔跑”。

作为湖北省十大实验室之一，湖北九峰山实验室成立于2021年，已建成全球化合物半导体产业最先进、规模最大的科研及中试平台，是湖北重要的科技成果转化应用载体。实验室主任丁琪超说，实验室有上百个项目在同时运转，既有联合研发项目，也有实验室基于发展愿景必须攻克的关键核心技术项目。

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激光闪烁，一片碳化硅晶圆仅用10分钟就完成了切割，崩边在5微米以内，达到国际先进水平。“全国产化半导体晶圆激光切割机是我们联合九峰山实验室推动协同创新，实现高端装备国产化的最新成果。”华工科技产业股份有限公司党委书记、董事长马新强说，目前新产品已在九峰山实验室完成中试发往首家客户，未来有望成为企业新的增长点。】

【重要议程，专家云集，2024CSE 开幕大会主旨报告议题揭晓】2004年4月9日，本届九峰山论坛采取“1场开幕大会+8场行业论坛+多场行业专题会+多场展边会”的模式，将由10余位国内外院士领衔出席，共计150余位嘉宾分享行业报告，议程可谓相当充实。

《化合物半导体的全球格局下，中国光电子企业的机遇与探索》～熊文，华工科技副总裁。