今天盘中,据《科创板日报》报道,韩国Solus Advanced Materials宣布,已获得英伟达最终量产许可,将向铜箔积层板(CCL)制造商斗山电子供应HVLP铜箔,其将搭载在英伟达计划今年上市的新一代AI加速器上。
斗山是英伟达覆铜板新晋供应商,而Solus 获批给斗山供应HVLP铜箔并搭载在英伟达GB200上,意味着英伟达将正式启用HVLP铜箔这个新材料/新路径,类似之前的高速铜连接、玻璃基板。

HVLP极低轮廓铜箔,处理面粗糙度小,远低于其他铜箔,应用于高频高速覆铜板有助于减少信号损失,因此是高频高速覆铜板硬板使用的主流铜箔材料,之前未应用在服务器上主要是因为成本和性能,现在英伟达采用可能标志着可以在服务器上大量使用了,至少英伟达觉得性价比足够了。

 

同时,HVLP铜箔具有较强的国产替代属性。全球HVLP铜箔市场主要集中于韩国、日本,企业主要包括日本福田、日本三井、韩国斗山集团等,其中日本三井就占据了35%的市场份额。我国HVLP铜箔行业起步较晚,加之其核心技术长期被海外龙头企业垄断,导致需求高度依赖进口,近几年国产厂家才逐渐跟上,随着下游需求爆发,国产替代渗透率将持续提升。

 

相关上市公司有:铜冠铜箔、德福科技、宝鼎科技、逸豪新材。

 

追加内容

本文作者可以追加内容哦 !