国林科技是以臭氧技术为核心的拓展产业上下游的企业；近年来，依托几十年的臭氧相关技术积累进入半导体和光刻胶清洗设备领域，产品主要是两大类，臭氧水机和薄膜沉积设备两种。 臭氧气体发生器主要用于干法清洗，高浓度臭氧水则在硅片—晶圆—封测都需要应用
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半导体清洗设备的核心设备“高浓度臭氧发生器”，其市场主要由美国MKS及德国安索罗斯等国外厂商占据；据行业内消息，目前美国mks确定断供，已经发函给国内半导体企业停供设备了；国产替代的需求紧急且确定；
国林科技是以臭氧技术为核心的拓展产业上下游的企业；近年来，依托几十年的臭氧相关技术积累进入半导体和光刻胶清洗设备领域，产品主要是两大类，臭氧水机和薄膜沉积设备两种。 臭氧气体发生器主要用于干法清洗，高浓度臭氧水则在硅片—晶圆—封测都需要应用
国林科技是以臭氧技术为核心的拓展产业上下游的企业；近年来，依托几十年的臭氧相关技术积累进入半导体和光刻胶清洗设备领域，产品主要是两大类，臭氧水机和薄膜沉积设备两种。 臭氧气体发生器主要用于干法清洗，高浓度臭氧水则在硅片—晶圆—封测都需要应用
